近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了-外链论坛

u1jodi1q 发表于 2024-8-21 09:46:03

近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了

7月17日，全世界最大的光刻设备厂商阿斯麦（ASML）颁布2024年第二季度业绩。
按照数据，ASML Q2总净营销额 62.43亿欧元（约491亿元人民币），净利润为15.78亿欧元，毛利率 51.5%，第二季度净预订量为55.67亿欧元，其中25亿欧元为EUV预订额。不外相比去年同期的营收69亿欧元、净利润19.4亿欧元，ASML今年第二季度业绩不及当时水平。
<img src="//q2.itc.cn/images01/20240718/b7eb4f8a08a84d72bacb4831e8e2f0a3.jpeg" style="width: 50%; margin-bottom: 20px;">照片源自：ASML官网截图
但ASML暗示，第二季度的总净营销额高于预期，这重点得益于沉浸式系统营销的增多。与前几个季度同样，整体半导体库存水平继续改善，能够看到规律和存储客户的光刻工具利用率进一步加强。尽管市场仍存在不确定性，重点是受宏观环境的影响，但预计行业复苏将在下半年连续。
ASML总裁兼首席执行官Christophe Fouquet暗示，预计2024年第三季度总净营销额在67亿欧元至73亿欧元之间，毛利率在50%至51%之间。ASML预计开发成本约为11亿欧元，营销、通常及行政花费约为2.95亿欧元，对2024年全年的展望保持不变。
Christophe Fouquet认为，“2024年是一个过渡年，将继续在产能提高和技术方面进行投资。日前，咱们看到人工智能的强劲发展，推动了大部分行业的复苏和增长，领先于其他细分市场。”
半导体行业准备迈入High-NA EUV时代
众所周知，EUV光刻机是先进半导体生产的关键。从本质上理解，High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA表率数值孔径，暗示光学系统收集和聚焦光线的能力，数值越高，聚光能力越好。经过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅加强分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。
业界预计，随着High-NA EUV技术的持续成熟和普及，将在2025-2026年时期迎来大规模的量产应用，并认为，半导体行业准备迈入High-NA EUV时代。
当前，全世界新晶圆厂建设如火如荼，这其中必离不开EUV光刻机的运作，从大厂建厂动态来看，台积电、英特尔、三星等芯片大厂正在实行各自建厂计划，晶圆代工厂商先进制程之战早已起始，预计将在2025年至2027年配备新设备。
台积电方面，据台湾地区媒介报告，2024-2025两年，台积电将接受60台EUV光刻机，预估总投资额将超新台币4000亿元（约122.7亿美元），据说，ASML年底将向台积电交货High-NA EUV。
<img src="//q7.itc.cn/images01/20240718/43265331d12e4dc0869b6db3bde54d26.jpeg" style="width: 50%; margin-bottom: 20px;">照片源自：拍信网
三星方面，三星已在ASML韩国华城新园区周边新得到了一起场地，将于明年起始建设，计划在竣工时引进“高数值孔径”设备，预计最晚会在2027年完成。
英特尔方面，该机构包揽了，ASML截止2025上半年的高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备订单，此前英特尔已完成ASML首台High NA EUV光刻机设备组装，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。
从这个时间点来看，ASML此前预计到2025年产能目的将达到90台EUV极紫外光刻机、600台DUV深紫外光刻机、20台High-NA EUV高数值孔径光刻机。
日前ASML是全世界独一把握High-NA EUV技术的设备厂商。从制品升级性能来看，与0.33NA相比，High-NA能够使晶体管密度增多近3倍。制品进度上，在0.33NA EUV光刻机方面，ASML已交付额外的NXE:3800E系统，预计今年下半年大部分出货将是3800E系统；0.55NA High-NA EUV光刻机方面，ASML已在Q2出货第二套系统，第1套系统在客户处运行合格晶圆，第二套系统亦在安装中。
在High-NA EUV之后，ASML已起始着手科研下一代Hyper-NA EUV设备，寻找合适的处理方法。据外媒EETimes 6月报道，ASML颁布了下一代Hyper-NA EUV设备蓝图，日前为研发初期周期。
ASML计划，2030年推出Hyper-NA EUV，数值孔径达0.75。相比High-NA EUV的0.55数值孔以及标准EUV的0.33数值孔径，Hyper-NA EUV精确度加强，可有更高分辨率图案化及更小晶体管特征。对ASML而言，Hyper-NA技术还能推动整体EUV平台，改善成本和交货时间。
<img src="//q5.itc.cn/images01/20240718/59c7cc71f60743d88dd033c514dcad64.jpeg" style="width: 50%; margin-bottom: 20px;">照片源自：ASML
随着先进制程的持续更迭，技术节点正向1纳米以下的埃米时代发展。ASML叫作，Hyper-NA是将来埃米级制程的必要设备，许多机构将采用Hyper-NA EUV，以降低多重图形化制程的危害。
IMEC图案化项目总监Kurt Ronse暗示，High-NA EUV应可包含2~1.4纳米节点，再到1~0.7纳米节点，之后由Hyper-NA EUV接续。他还认为，Hyper-NA EUV是机会，作为2030年后新愿景。Hyper-NA EUV比High-NA EUV双重揭发的成本更低，亦为半导体产业带来新机会。
全世界半导体设备营销额大涨
当前，AI人工智能带动了HBM、晶圆代工、先进封装需求飞升，半导体设备亦随之受益。据公开信息表示，半导体设备是用于生产各类型集成电路与半导体分立器件的专用设备，重点包括前道工艺设备（晶圆制造）和后道工艺设备（封装测试）两大类。
前道工艺设备（晶圆制造）用于晶圆制造环节，设备制品包含光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、CMP设备等；后道工艺设备（封装测试）重点用于半导体制品的封装和测试环节，以保证制品的质量和靠谱性，表率制品包含划片设备、封装设备、测试设备等，晶圆切割机亦包括其中，重点用于将晶圆切割成芯片，以便之后的封装和测试。
国际半导体产业协会（SEMI）最新报告指出，看好全世界半导体制造设备市场，预期2024年营销总额可望年增3.4%、达1,090亿美元，创新高；明年有机会冲高至1,280亿美元，比去年底预期的1,240亿元更好。
根据地区来看，全世界半导体营销倘若按照地区来区分，SEMI暗示，中国大陆、中国台湾地区、韩国，至2025年仍稳居设备支出前三大。其中，中国大陆区设备采购量连续增多，预测时期内可望维持领先地位，估计2024年中国大陆设备出货量将来到创纪录350亿美元，不外，2025年可能趋缓下跌。
SEMI暗示，展望2025年，在先进规律和存储器应用需求增多带动下，晶圆厂设备营销额可望更上一层楼，增幅14.7%至1,130亿美元。
日本方面，据日本半导体制造设备协会（SEAJ）预计，2024年度日本半导体设备营销额将首破4万亿日元，年增15%，2026年度更将超5万亿日元，重点受AI普及带动的GPU和HBM需求增长所推动。<a style="color: black;">返回外链论坛：www.fok120.com，查看更加多</a>

责任编辑：网友投稿

星☆雨 发表于 2024-8-23 10:17:27

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vixf 发表于 2024-9-6 22:15:21

祝福你、祝你幸福、早日实现等。

星☆雨 发表于 2024-9-10 07:34:09

楼主的文章非常有意义，提升了我的知识水平。

4lqedz 发表于 2024-10-3 10:26:33

你的话语如春风拂面，让我感到无比温暖。

m5k1umn 发表于 2024-10-19 05:28:27

祝福你、祝你幸福、早日实现等。

nykek5i 发表于 2024-11-11 20:34:15

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qzmjef 发表于昨天 08:35

你的言辞如同繁星闪烁，点亮了我心中的夜空。

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